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제품
Plasma Monitor
반도체/디스플레이 공정 챔버 내의 plasma를 monitoring하여 arcing,
intensity distribution 또는 pulsing property를 분석하는 센서
Semiconductor, LCD/OLED 등 분야
Etch, plasma treatment, PR/ACL strip
Single sensor, 1D linear sensor, 2D image sensor
Specifications
Spectral range 400~1100nm
Condensing Lens module
A/D converting 16bit
Sensitivity adjustment Gain/offset adjustable
Operating system Win10
Computing hardware High performance type
Software Included as by application
Communication Ethernet
Model
Sensor head
Model Description
2PM-ADU
Single sensor
Pulsed plasma analysis or arc detection
2us sampling period
5~16º viewing angle
Nano2PM or NanoPAM software
ADPLUS 1D CMOS sensor
Plasma intensity distribution
60us sampling period
32 zone-divided viewing
NanoArcD software
Controller for sensor head
Model Description
SMC-10
Horizontal type
3U 19” rack mount type
SMC-10HeU Vertical type
Stand alone type
Concept & Configuration
Software
Nano2PM
NanoArcD
Application
Arc detection
반도체/디스플레이 공정 챔버의 arcing을 실시간으로 검출 가능하여
particle에 의한 defect을 초기에 검출
Plasma treatment 공정 사용 가능
Particle defect 예방
Pulsed plasma analysis
반도체/디스플레이 공정 챔버에서 사용되는 pulsed plasma의
특성을 수치적으로 분석하여 공정 modeling 가능
Pulsed plasma etch, PEALD 사용 가능
Plasma intensity, pulse on/off time, rising/falling time 측정
Frequency/period, duty rate 산출
Plasma 1D linear time series analysis
챔버 내 plasma의 선형 분포에 대해 시계열 분석 가능
Plasma의 선형 분포 확인 가능
60us sampling time으로 32 zone-divided 분석