HISTORY
연혁
HISTORY
나노텍이 걸어온 발자취는
광계측 분야 발전의 역사입니다.
1993년,
신기술 개척을 위한 설립
(주)나노텍은 1993년 레이저 광학, 광전자 분야의
신기술 개척을 목적으로 한 알텍을 설립하여
1998년 법인 전환 후 현재까지
광계측 센서 분야 기술 중심의 전문 기업으로
꾸준히 성장하고 있습니다.
성장과 혁신
끊임없는 개발과
새로운 혁신
2021
12
SPOES + 2,600 대 공급
Filter EPD + 8,500대 공급
04
YMTC 양산라인진입 (SPOES)
2019
08
CXMT 양산라인 진입 (SPOES)
2018
04
LGD 양산라인 진입 (EPD)
01
BOE.OLED 양산라인 진입 (HMS)
중국시장 진출
2015
11
SEC.LSI 양산라인 진입 (OES/2PM-AD)
06
광전자 연구소 용인 수지구 대지로 본사로 이전
2014
04
본사 용인 죽전동으로 이전
2013
12
Samsung Xian FAB (중국) 엔지니어 파견 서비스 개시
08
신제품 (Chamber Cleaning Monitor) 출시
04
Plasma monitor 개발 (2PM-AD/2DRPM)
신제품 (Spectral Reflectometer, Pulsed Plasma Monitor) 출시
발전과 도약
혁신과 열정의
산물
2012
10
SKHynix Wuxi FAB (중국) 엔지니어 파견 서비스 개시
08
SKHynix 양산라인 진입 (SPOES)
2011
04
SDC.OLED 양산라인 진입 (OES/SPOES)
01
본사 수원으로 이전
2010
12
SDC.LCD 양산라인 진입 (SPOES)
2009
12
SPOES ASMGK 설비 기본 장착 모델로 선정. 독점 공급 개시
01
SPOES 일본 대리점 계약 (Intellution, Inc.)을 통한 해외 영업 개시
2008
06
SEC 양산라인 진입 (SPOES)
광전자 연구소 한국산업기술대학교로 이전
01
Wet Etcher EPD (NEW-100) 제품 출시
진입과 도전
혁신을 위한
진정한 열정
2007
12
Wet EPD 개발 (NEW-100/OPTI-W)
2005
12
SPOES 개발 (AEGIS Series)
08
Dry EPD 개발 (NEC/OPTI series)
2002
02
500W UV exposure system
2000
12
광전자 연구소 설립
창립과 개척
21세기를 향한
혁신의 시작
1998
07
NANOTECH 법인 설립 (珼 용인 죽전 소재)
01
PSK 공급 (NEFL series)
1997
10
Filter EPD 개발 (NEFL series)
Monochromator EPD (NEM series)
1996
08
1kW UV exposure system
1993
12
ALTECH 설립 (Applied Laser Technology)